Skip

Реактивное ионное травление / Плазменное травление (Reactive Ion Etch / Plasma Etch (RIE/PE))



запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

Особенности технологий RIE/PE

  • охлаждаемый нижний электрод
  • ВЧ мощность подведена к верхнему или нижнему электроду (13.56 MHz)
  • автоматическое переключение подвода мощности
  • газовый душ для подачи газа (на верхнем электроде)
  • основные параметры: газовый поток, рабочее давление, величина ВЧ мощности

9fadc31f34e391fe1bced297f2538e64.jpeg