Skip

Магнетронное распыление (Magnetron Sputter Deposition)



запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

Особенности:

  • типичное рабочее давление: 1 - 30 мторр
  • хорошее покрытие "ступеней"
  • стандартный метод для осаждения высококачественных пленок Al, сплава Al, Ti, TiN, TiW
Типичные применения физического осаждения (PVD):
  • высококачественные пленки Al и его сплавов для контактов и дорожек
  • диффузионные барьеры: TiN (реактивное магнетронное распыление)
  • резистивные пленки: NiCr, TaN
  • драгоценные металлы: Au, Pt
  • прозрачные проводящие оксиды: ITO, SnO, ZnO etc
Примеры технологических процессов можно найти здесь
eb1769ab5b2271873d6fa94e83061aa5.jpeg

Система магнетронного распыления от OIPT: PlasmaPro400