7 марта наши партнеры из Oxford Instruments Plasma Technology получили премию CS Industry Awards

Рады сообщить, что наши партнеры из OIPT получили премию CS Industry Awards в номинации High Volume Manufacturing проходившую 7 марта в Брюсселе. Премия подчеркивает вклад компании в разработку процесса сквозного травления карбида кремния (SiC) с использованием уникальной системы OIPT PlasmaPro100 Polaris. Рады поздравить наших надежных партнеров с очередным признанием их инновационных разработок в области CVD и PVD технологий. Процесс сквозного травления SiC с гладкими боковыми стенками — это важный шаг к созданию нового поколения ВЧ приборов, которые, благодаря успехам OIPT, будут иметь низкие операционные издержки при изготовлении.