Skip

Система для электронно-лучевой литографии высокого разрешения CABL-9000 / CABL-UH



запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

Системы нанолитографии от Crestec обладают следующими характеристиками:
  • ускоряющие напряжение до 130 кВ
  • минимальная ширина линии 5 нм
  • диаметр пятна до 1.6 нм
  • диаметр пластин до 200 мм
  • полевой катод ZrO/W
  • ручная загрузка
  • размер поля 30 мкм, 60 мкм, 120 мкм, 300 мкм, 600 мкм, 1200 мкм, 2400 мкм
  • векторное сканирование (x, y)
  • векторное сканирование (R, f)
  • растровое сканирование
  • компактные размеры системы
  • термостатированный кожух
  • минимальные затраты на подготовку помещения