Травление Au, Pt, Ni физическим распылением

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление золота на 0,5 мкм

Травление ЦТС (цирконат-титанат свинца)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: анизотропное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы структуры ЦТС(400нм)/Pt(120нм)/Ti(30нм)/низкотемпературный оксид (на заданную глубину).

Травление хрома (Cr)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория Института микроструктур Макса Планка в г. Галле (Германия): анизотропное травление хрома на 0,5 мкм со скоростью 12 нм/мин с селективностью к маске AR-P 351 1:1,2 (маска не удалена)

Травление фотошаблонов

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Анизотропное реактивное ионное травление кварца PlasmaPro80, PlasmaPro800 и PlasmaPro100. Особенности технологии, результаты

Анизотропное травление нитрида титана (TiN)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория компании АМО г. Аахен, Германия: травление TiN — полосы шириной 90 нм

Травление вольфрама (W)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Сечение в вольфрамовой пластине, выполненное с помощью сфокусированного ионного пучка. Полушаг 35 нм, глубина 300 нм.

Травление меди (Cu) — анализ отказов

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: безостаточное травление Cu

Травление ниобия (Nb)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление Nb на 0.3 мкм (фоторезист не удален)

Реактивное ионное травление оксида индия, легированного оловом (ITO)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

 

Лаборатория OIPT: Травление ITO с применением индуктивно-связанной плазмы

 

Реактивное ионное травление селенида свинца (PbSe)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: Глубокое (0,7 мкм) травление PbSe, фоторезист удален

Травление теллурита висмута (Bi2Te3)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Терморегуляторы и охладители Пельтье.
Производитель решил изготавливать эти элементы с использованием оборудования для микроэлектроники.
Подложки — стандартные пластины структуры кремний/оксид кремния. Пленки теллурида висмута, обладающие термоэлектрическим эффектом, были протравлены процессом сухого травления с помощью Plasmalab100 с источником индуктивно-связанной плазмы ICP380.

Низкоэнергетичное травление теллурида ртути кадмия (HgCdTe(CMT))

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление CMT на 8 мкм, с возможностью контроля профиля (фоторезист не удален)

Травление сапфира (Al2O3) с применением индуктивно-связанной плазмы

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление сапфира с наклоном боковой стенки в 80о

Сухое травление танталата лития (LiTaO3)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория Бристольского университета: травление танталата лития на глубину в 1 мкм

Сухое травление боросиликатного стекла

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: анизотропное травление стекла, глубина 10 мкм

Травление ниобата лития (LiNbO3)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление ниобата лития на 4 мкм (фоторезист не удален)

Травление титана (Ti)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория OIPT: травление Ti на 22 мкм (фоторезист не удален)

Реактивное ионное травление оксида титана (TiO2)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Лаборатория Объединенного Восточного университета, Йоэнсуу (Финляндия): Травление TiO2 под наклоном 30о