Ионно-лучевое травление оксида иттрия-бария-меди (YBCO)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Травление YBCO глубиной 1 мкм с фоторезистом при низких энергиях ионов (с благодарностью к FhG Berlin)

Ионно-лучевое травление платины (Pt)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Травление Pt глубиной 2 мкм

Ионно-лучевое травление никеля и нихрома (Ni, NiCr)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Травление Ni на глубину 0.3 мкм (Фоторезист не удален)

Ионно-лучевое травление золота (Au)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Глубокое травление Au 3 мкм с фоторезистивной маской (не удалена)

Реактивное ионно-лучевое травление ниобата лития (LiNbO3)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Глубокое анизотропное травление LiNbO3 — 10 мкм (лаборатория OIPT)