Реактивное ионное травление структур SiGe и Si/SiGe/Si

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Рурский университет Бохума: анизотропное травление гетероструктуры Si/SiGe/Si

Наномасштабное и глубокое травление германия (Ge)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Королевский технологический институт, Стокгольм: решетка из Ge с полушагом 25 нм

Анализ отказов

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Процессы травления для проведения анализа отказов

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2 на глубину 4 мкм