Атомно-слоевое осаждение (Atomic Layer Deposition (ALD))

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Atomic Layer Deposition (ALD) — реальная нанотехнология, позволяющая осаждать ультратонкие пленки в несколько нанометров с очень точным контролем. Основные особенности и преимущества технологии