Система для электронно-лучевой литографии высокого разрешения CRESTEC CABL-9000 / CABL-UH

Системы нанолитографии от Crestec обладают следующими характеристиками:

• Ускоряющие напряжение до 130 кВ;
• Минимальная ширина линии 5 нм;
• Диаметр пятна до 1.6 нм;
• Диаметр пластин до 200 мм;
• Полевой катод ZrO/W;
• Ручная загрузка;
• Размер поля 30 мкм, 60 мкм, 120 мкм, 300 мкм, 600 мкм, 1200 мкм, 2400 мкм;
• Векторное сканирование (x, y);
• Векторное сканирование (R, f);
• Растровое сканирование;
• Компактные размеры системы;
• Термостатированный кожух;
• Минимальные затраты на подготовку помещения.