Микро- и нано-электроникаАнализ поверхностиИсследование структуры и химического составаБиология и биотехнологияГеология и петрофизикаТехнологическое оборудование
Атомно-слоевое осаждение оксида титана (TiO2)
Атомно-слоевое осаждение оксида титана (TiO2) с применением удаленного источника плазмы
Лаборатория Йенского университета (Германия): Пленка TiO2 толщиной 300 нм, осажденная методом ALD в установке OpAL