Skip

Процессы травления для нужд Si микроэлектроники

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2 на глубину 4 мкм

Реактивное ионное травление структур SiGe и Si/SiGe/Si

Рурский университет Бохума: анизотропное травление гетероструктуры Si/SiGe/Si

Наномасштабное и глубокое травление германия (Ge)

Королевский технологический институт, Стокгольм: решетка из Ge с полушагом 25 нм

Анализ отказов

Процессы травления для проведения анализа отказов