Skip

Процессы ионно-лучевого напыления

Изготовление ионно-лучевым методом УФ зеркала HfO2/SiO2

Спектр пропускания УФ зеркала для 266 нм, измеренный на спектрофотометре Cary 500.


Напыление оксида ванадия (VOx)

Применение оксида ванадия в создании микроболометров для ИК тепловизоров

Напыление оксида кремния (SiO2)

Применение SiO2 для оптических фильтров

Напыление оксида тантала (Ta2O5)

Применение Ta2O5 для оптических фильтров

Напыление оксида титана (TiO2)

Напыление TiO2 для оптических фильтров

Ta2O5/SiO2 для DWDM

Напыление SiO2/Ta2O5 для DWDM (мультиплексирование с разделением по спектральной плотности)

Напыление оксида алюминия (Al2O3)

Ионно-лучевое напыление Al2O3

Напыление кремния (Si)

Ионно-лучевое напыление Si

Напыление DLC покрытия

Ионно-лучевое напыление DLC покрытия в лаборатории OIPT