Skip

Оборудование для CVD и PVD

Технологии плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), атомно-слоевого осаждения (ALD), ионно-лучевого напыления (IBSD), магнетронного распыления широко применяются в наноэлектронике, оптоэлектронике, производстве МЭМС, тонкопленочных гибридных схем, а также в R&D-лабораториях для модификации поверхностей материалов (нанесения токопроводящих, защитных, диэлектрических слоёв, масок).

Мы предлагаем оборудование для химического осаждения из газовой фазы и вакуумного напыления покрытий, разработанное лидерами мирового рынка - Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) и Scientific Vacuum Systems (SVS).

  • Системы серии PlasmaPro (OIPT) предлагают комплексные решения для исследовательских лабораторий и организации серийного производства. Гибкая конфигурация оборудования позволяет выбрать оптимальный вариант исполнения для реализации процессов PECVD, ICP-CVD, комбинированных процессов плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы и термического осаждения из газовой фазы (PECVD-CVD, LPCVD). Основные модули платформ PlasmaPro 100, PlasmaPro 133 PlasmaPro NGP 1000 могут использоваться как в качестве отдельной установки, так и в составе кластерной системы оборудования с установками FlexAl, Ionfab, Nanofab и другими модулями, совместимыми по стандарту MESC.
  • Компания Scientific Vacuum Systems специализируется на разработке систем физического осаждения покрытий. Мы предлагаем магнетронные, электронно-лучевые и ионно-лучевые установки CVS, которые могут быть поставлены в различных конфигурациях, адаптированных для потребностей R&D-лабораторий или массового производства.

Для подбора оптимального варианта исполнения системы вакуумного напыления или плазмохимического осаждения из газовой фазы и расчета цены оборудования Вы можете оставить заявку на сайте.

Платформа PlasmaPro100

Каталог систем обработки полупроводниковых пластин. Заказать оборудование на платформе PlasmaPro100 для процессов травления и осаждения в компании ТехноИнфо

Платформа PlasmaPro80

PlasmaPro80 - платформа для компактных систем с открытой загрузкой для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD).

Платформа PlasmaPro800

PlasmaPro800 - платформа с открытой загрузкой и большой вместимостью пластин для реактивного ионного травления и плазменного осаждения.

Платформа PlasmaPro1000

PlasmaPro1000 - платформа для максимальных производительности процессов травления и осаждения ориентированных на LED промышленность.

Cистемы магнетронного распыления

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Комплектация, расположение магнетронов и подложек, производительность системы могут варьироваться по требованию пользователя

Cистемы электронно-лучевого испарения

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Комплектация, производительность и набор опций системы могут варьируются в зависимости от требований пользователя

FlexAL

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Cистема атомно-слоевого осаждения (ALD) со шлюзовой камерой FlexAL - это система для самоограничивающегося послойного роста сплошных тонких пленок, отличающихся высокой конформностью

Nanofab

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Система для выращивание нанотрубок,нанопроводов и 2D структур плазмохимическим способом

Ionfab 300Plus

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Ионно-лучевая система для процессов нанесения и травления.

Cистемы ионно-лучевого травления и нанесения

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Системы ионно-лучевого травления и нанесения для прецизионных технологических процессов