Skip

Технологии микро и наноэлектроники

Атомно-слоевое осаждение (Atomic Layer Deposition (ALD))

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Atomic Layer Deposition (ALD) - реальная нанотехнология, позволяющая осаждать ультратонкие пленки в несколько нанометров с очень точным контролем. Основные особенности и преимущества технологии

Микро- и нанотехнологии получили широкое распространение в таких отраслях, как производство жидкокристаллических дисплеев, жестких дисков, различных полупроводниковых устройств (например, фотоэлементов солнечных панелей), компьютерных чипов, сенсоров и микроэлектромеханических систем (МЭМС).

Создаваемые с применением микротехнологий устройства формируются на пластинах из кремния, кварца, арсенида галлия и др. Процесс обработки этих пластин сложен и многоэтапен, но основными технологическими операциями при создании микро- и наноструктур являются операции травления и осаждения функциональных слоев. Функциональные слои получают методами осаждения на подложку тонких пленок, среди которых наибольшую эффективность демонстрируют атомно-слоевое и плазмохимическое осаждение из газовой фазы, электронно-лучевое испарение, а также магнетронное и ионно-лучевое напыление.

Ведущими игроками на рынке микроэлектроники являются британские компании Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) и Scientific Vacuum Systems (SVS). Предприятия предлагают широчайший спектр оборудования для проектирования и создания микро- и наноструктур. Актуальный модельный ряд установок представлен в каталоге «ТехноИнфо».