Травление линз из кварца, SiO2 и стекла с применением ICP источника

Травление линз из кварца, SiO2 и стекла с применением ICP источника, описание процесса и оборудование

Лаборатория OIPT: маска фоторезист, материал травления кварц.



Оборудование:

PlasmaPro80
PlasmaPro100
PlasmaPro800

Особенности технологии:

  • реактивное ионное травление с применением индуктивно связанной плазмы (13,56 МГц);
  • процесс основан на фторной химии;
  • процесс для SiO2, кварца и некоторых типов стекла
    icp_r_ww.gif

Результаты:

  • скорость травления: >200 нм/мин;
  • равномерность: +/-5% (6");
  • гладкость поверхности Ra<10 нм;
  • селективность к Pr маске: (0.5-1.5):1;
  • минимальная глубина травления перед мех. обработкой 1000 мкм.

lq_digop.jpg
Лаборатория OIPT: ширина тренча 0,3 мкм, глубиной 1 мкм.