Химическое осаждение (PECVD) оксида алюминия (Al2O3)

PlasmaProSystem 100/133

Технологические особенности:
реактор с двумя параллельными электродами
газовый душ для равномерного осаждения
прекурсор — TMA

Скорость осаждения : > 20 нм/мин
Равномерность: +/- 5 % по 200 мм пластине
Воспроизводимость: +/- 2 %

Коэффициент преломления 1,64

Зависимость скорости осаждения и коэффициента преломления от температуры осаждения

РФС анализ пленки Al₂O₃, осажденный при температуре 400 ^оС и n=1.65. Содержание Al-45%, O₂-55%, N и C < 0.5%