Атомно-слоевое осаждение нитрида гадолиния (GdN) с применением удаленного источника плазмы

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology


G4%20GdN%20ALD%20AES.gif
Атомно-эмиссионная спектроскопия пленки GdN, осажденной в азотной плазме (пленка GdN покрыта пленкой TaN для предотвращения окисления).

G4%20GdN%20ALD%20%20GRC%20vs%20temp.gif
Скорость роста пленки как функция температуры процесса с и без ассистирования азотной плазмой.

GdN - это ферромагнетик, проводящий материал, который может применяться в спинтронных устройствах.

Осаждение в системе OpAL.
Прекурсор: Gd(MeCp)3 плюс ассистирование азотной плазмой.
Dr Richard Potter.
Ливерпульский Университет.