Травление сапфира (Al2O3) с применением индуктивно-связанной плазмы

Травление сапфира с применением индуктивно-связанной плазмы описание и оборудование

Лаборатория OIPT: травление сапфира с наклоном боковой стенки в 80°.

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology


es_02.jpg
Лаборатория OIPT: травление сапфира с наклоном боковой стенки в 80°.

es_01.jpg
Лаборатория OIPT: анизотропный профиль протравленного сапфира.

Технологические особенности:

  • Реактивное ионное травление с применением индуктивно-связанной плазмы с помощью ВЧ генератора с параллельными электродами и частотой возбуждения плазмы - 13.56 МГц;
  • ВЧ управляемый нижний электрод.

Результаты:

  • Скорость: 65 нм/мин;
  • Равномерность 2,5% по 50 мм пластине;
  • Селективность к Ni маске > 7:1;
  • Профиль: анизотропный (наклон 80°);
  • Гладкие боковые стенки.