Skip

PlasmaPro 800 RIE



Высокопроизводительная система с открытой загрузкой для процессов травления.

запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

PlasmaPro 800 RIE позволяет проводить процессы реактивного ионного травления на больших подложках для создания сложных полупроводников, оптоэлектроники и фотоники и обеспечивает:

  • высокую производительность процессов
  • превосходный контроль температуры подложки
  • точный контроль процесса
  • определения конечной точки травления для надежности и удобства эксплуатации
  • широкие диапазон электродных размеров и размер партий
  • 4, 8 или 12 газовых линий для технологических процессов, причем баллоны с газами могут располагаться в сервисном помещении