Установка PlasmaPro100 PECVD

Система для осаждения Oxford Instruments PlasmaPro100 PECVD купить в Техноинфо

Установка PlasmaPro100 PECVD — это система для плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD)



Установки спроектированы для производства пленок с высокой равномерностью и скоростью осаждения. Система позволяет превосходно контролировать такие свойства пленок, как коэффициент преломления, внутренние напряжения, электрические характеристики и скорость осаждения.

Рабочие камеры доступны как обособленные модули со шлюзовой камерой, так и в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой.

Технологические особенности системы:

  • заземленный нижний электрод с возможностью нагрева до 400ºC (типичные процессы - это осаждение SiO2, Si3N4, SiON, аморфный Si и SiC) опционально до 700ºC (для выращивания Si нанопроводов, высокотемпературного PECVD с широким выбором химии процесса);
  • газовый душ с оптимизированной подачей газа и приложенным ВЧ потенциалом;
  • превосходная равномерность;
  • возможность проведения процесса при высоком давлении и режиме интенсивного потока газа;
  • онлайн очистка камеры;
  • совместимость с пластинами диаметром от 50 мм до 200 мм или держателями пластин оригинальной формы;
  • оптимизированный дизайн верхнего электрода работающего при высоких давлениях и ВЧ мощностях и позволяющего увеличить скорость осаждения диэлектриков и аморфного кремния;
  • подведенная ВЧ мощность к газовому душу с оптимизированной подачей газа, обеспечивающая равномерное горение плазмы.
  • Гибкий модуль доставки жидких прекурсоров с емкостью для 3 разных прекурсоров, доставляемых с помощью:
    • давления насыщенных паров путем нагрева емкости с прекурсором и регулятора расхода газа
    • барботированием с помощью аргона
  • Модуль обеспечивает доставку широкого круга прекурсоров, таких как:
    • TEOS, TMA, TMB, TMP и др.