Системы магнетронного распыления

SVS предлагает разные варианты и конфигурации магнетронных систем как для R&D целей, так и для массового производства. По типам магнетронов их можно разделить на следующие группы:

• Магнетроны постоянного тока (DC) для осаждения металлов;
• Магнетроны с импульсным питанием;
• Магнетроны с HIPIMS питанием;
• ВЧ магнетроны для осаждения диэлектриков.

Технологические особенности систем:

• Реализация смещения на подложке для её же очистки либо напыления с ионным ассистированием;
• Экраны для минимизации загрязнений рабочей камеры;
• Безмаслянная откачка;
• Экраны для минимизации загрязнений рабочей камеры;
• Охлаждение или нагрев подложки (до 800°C);
• Контроль скорости осаждения кварцевыми датчиками;
• Магнетроны с диамтером мишеней от 50 до 200 мм могут быть установлены как в плоской так и в конфокальной конфигурации;
• Очистка подложек ВЧ смещением или ионным источником;
• ВЧ смещение мощностью до 600 Вт, совместно с вращением подложки и нагревом (или охлаждением);
• Ионное ассистрование во время осаждения покрытия;
• Реактивное осаждение;
• Толщина покрытий от нескольких нанометров до нескольких микрон;
• Крио- или турбоотчкачка вакуумного объема;
• Управление системой происходит посредством программируемого логического контроллера через ПК или HMI;
• Ведение базы данных всех основных параметров процесса;
• Возможность установки загрузочного шлюза или перчаточной камеры.

Системы магнетронного напыления от SVS позволяют проводить процессы осаждения пленок металлов, оксидов, нитридов и силицидов толщиной от 20 нм до нескольких микрон.

Держатель пластин с возможностью охлаждения водой, нагрева до 800°С, подачи ВЧ-смещения на подложку обеспечивает гибкое управление настройками процесса в зависимости от выбранного материала. С помощью высокочастотного смещения проводятся процессы, стимулированные плазмой, что увеличивает адгезию пленок и допускает возможность контроля структуры и стехиометрии наносимого материала. Система позволяет реализовать режимы распыления в постоянном и переменном токе, импульсный режим и режим реактивного распыления.

Модельный ряд SVS:

• Расположение магнетронов сбоку (V2000);
• Расположение магнетронов снизу (V2400);
• Расположение магнетронов сверху (V2600);
• Модель с загрузочным шлюзом (V2800);
• Потоковая система с загрузочным шлюзом для нанесения материала на большие площади (V2900).

Все системы могут быть установлены в чистой комнате.